小間番号:2B-506(前工程ゾーン)

小間番号:M5-013(先端エレクトロニクスパビリオン)

(前工程ゾーン)
【電子材料営業部】
半導体用最先端フォトレジスト

• EUV(極紫外線)用フォトレジスト
• ArFエキシマレーザー液浸リソグラフィ用フォトレジスト
• ArFエキシマレーザーImplant用フォトレジスト
• KrFエキシマレーザーWetEtch用フォトレジスト
• 誘導自己組織化レジスト
• リフトオフレジスト(I線フォトレジスト)

半導体用フォトレジスト関連材料

• 剥離液
• 密着性向上材料

【高密度実装営業部】
半導体用プロセス機器

• レジスト塗布装置
• レジスト現像装置

バックエンドプロセス　TSV・MEMS用材料

• 感光性絶縁膜
• 化学増幅型ポジ型フォトレジスト
• 化学増幅ネガ型永久膜フォトレジスト

MEMS/CSP/BUMP(パッケージ)関連装置

• 高速フォトレジスト現像装置
• 真空UVハードニング装置

【市場開発部】

• スプレーコーター

【新事業開発部】
ナノインプリント材料

• 室温ナノインプリント用材料
• UVナノインプリント用材料

(先端エレクトロニクスパビリオン)
【新事業開発部】
構造体形成材料(MEMS&バイオチップ)

• 感光性永久膜材料
• 感光性接着剤
• 密着性向上材料
• 剥離液

半導体用最先端フォトレジスト、半導体用フォトレジスト関連材料
電子材料営業部
TEL.044-435-3001　FAX.044-435-3021

半導体用プロセス機器、バックエンドプロセス　TSV・MEMS用材料、MEMS/CSP/BUMP(パッケージ)用材料
高密度実装営業部
TEL.044-435-3001　FAX.044-435-3021
スプレーコーター

市場開発部
TEL.044-435-3001　FAX.044-435-3021

ナノインプリント材料
構造体形成材料(MEMS&バイオチップ)
新事業開発部
TEL.0467-75-9916　FAX.0467-75-3281

※営業時間　8:45～12:00　13:00～17:30
(土・日・祝祭日・その他特定日は除きます)