1936年4月東京応化研究所として発足し、1940年10月に現在の東京応化工業株式会社が設立しました。

1986年7月に東京証券取引所市場第二部に上場し、1990年9月に市場第一部銘柄に指定されました。
尚、2022年4月、東京証券取引所の市場区分の再編により、市場第一部からプライム市場に移行しました。

東京応化の証券コードは4186です。

三菱UFJ信託銀行株式会社です。詳しくはこちらをご覧下さい。

100株です。

例年、第1四半期決算発表は5月初旬に、第2四半期決算発表は8月初旬に、第3四半期決算発表は11月初旬に、期末決算発表は2月初旬に行っております。詳しくはこちらをご覧下さい。 なお、決算資料等につきましては、当ホームページに掲載いたします。

概要・推移・決算短信等につきましてはこちらを、説明会につきましてはこちらをご覧下さい。

半導体・フラットパネルディスプレイ・パッケージモジュール用のフォトレジストを中心としたフォトリソグラフィ関連材料、また、半導体・液晶パネル用製造装置等の最先端微細加工分野で必要不可欠な製品を供給しております。また、化学/電子/医薬/食品/繊維で用いられる高純度の化学薬品を供給しております。各分野の製品のご紹介につきましてはこちらをご覧下さい。

フォトレジストとは、光に反応して化学的に作用・変化する樹脂で、感光性樹脂とも呼ばれています。半導体・フラットパネルディスプレイ・半導体パッケージ／実装・プリント配線板分野等の微細加工で必要不可欠な材料として広く用いられております。

フォトレジストは、露光した後に現像という処理を行うと、ネガ型フォトレジストは露光された部分が像として残り、ポジ型フォトレジストは露光されなかった部分が像として残ります。
写真１は露光・現像後の写真で、赤矢印の部分が像として残ったフォトレジストです。

フォトレジストには、大別して液状のものと薄いフィルム状に成型されたドライフィルムレジストと呼ばれるものがあります。
半導体・フラットパネルディスプレイの分野では主に液状のフォトレジストが使用され、プリント配線板の分野では主にドライフィルムレジストが使用されております。

例えば薬品を用いて処理を行う工程では、薬品で処理を行いますと、フォトレジストの像がある部分は薬品の影響を受けず、像のない部分のみ削るなどの処理を行うことができます。
写真2では、赤い部分が処理され、青い部分はフォトレジストに保護されるため、処理が行われません。この様にフォトレジストを利用することにより、選択的な処理が可能となります。