展示会情報

展示会名	SEMICON Japan 2017	期間	2017年12月13日(水)〜12月15日(金)
会場	東京ビッグサイト	出展場所	東展示ホール TOK小間番号 5235（5ホール）
公式サイト	http://www.semiconjapan.org/jp/	出展内容	世界を代表するマイクロエレクトロニクス国際展示会

出展内容

【電子材料営業部】
半導体前工程用材料
●ロードマップ
●EUV（極端紫外線）用フォトレジスト
●ArFエキシマレーザーフォトレジスト
●EB(電子線)用フォトレジスト
●KrFエキシマレーザーフォトレジスト
●i線フォトレジスト
●誘導自己組織化レジスト

【高密度実装営業部】
半導体後工程用材料、MEMS用材料
●厚膜めっき用化学増幅ポジ型フォトレジスト
●MEMS構造物形成用永久膜（液&フィルムタイプ）
●フレキシブル基板対応フォトレジスト
●Bosch & 非Bosch対応ドライエッチング用フォトレジスト

【装置営業部】
半導体用プロセス機器、MEMS／CSP／BUMP(パッケージ)関連装置
●レジスト塗布装置
●レジスト現像装置
●UVキュア装置
●プラズマアッシング装置 

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